【沃资讯】12月22日消息，荷兰半导体设备制造商ASML公司最近通过其官方推特账号宣布，已成功向美国半导体巨头英特尔交付首台高数值孔径光刻设备。
根据之前的报道，ASML公司的高数值孔径光刻设备专门用于生产2纳米工艺的半导体芯片，其光学性能的数值孔径(NA)已从0.33提升至0.55。这一技术的突破具有重要意义，将有望推动半导体行业的进一步发展。
据沃资讯了解，ASML公司明年的产能计划仅为10台，然而英特尔已经预定了其中的6台。不过，ASML公司计划在未来几年内将该设备的产能提高至每年20台，以满足不断增长的市场需求。
这台由ASML公司交付的新型高数值孔径EUV(极紫外光刻)系统配备了0.55数值孔径的镜头，分辨率达到8纳米，展现出令人瞩目的性能。
ASML公司官方并未透露具体交付的光刻设备型号，但非官方消息源称，这次交付的可能是Twinscan EXE：5000原型，交付地点位于英特尔在俄勒冈州的研究中心。
报道指出，这次交付共采用了250个大型包装箱，占用了13个集装箱的空间，考虑到后续的安装和调试，实际投入使用还需要数月的时间。
此外，有报道称，英特尔在量产过程中将采用更先进的ASML Twinscan EXE：5200光刻设备，预计每台设备的成本将高达2.5亿欧元，这也表明了英特尔在推动半导体技术领域的投资和发展。
