国产光刻胶量产验证成功,武汉太紫微T150A分辨率达120nm!

   发布时间:2024-10-15 16:52 作者:沈瑾瑜

武汉东湖新技术开发区管理委员会(中国光谷)传来振奋人心的消息,光谷企业在半导体专用光刻胶领域取得了重大突破。武汉太紫微光电科技有限公司(简称“太紫微公司”)自主研发的T150 A光刻胶产品,已成功通过半导体工艺量产验证,实现了配方全自主设计,有望改写国内半导体光刻制造的格局。

据中国光谷官方介绍,T150 A光刻胶产品与国际头部企业主流的KrF光刻胶系列相当,尤其在极限分辨率上达到了120nm,相较于国外同系列“妖胶”UV1610,T150 A展现出更大的工艺宽容度、更高的稳定性以及优异的坚膜后烘留膜率,对后道刻蚀工艺更为友好。验证结果显示,T150 A在密集图形刻蚀后,下层介质的侧壁垂直度表现尤为出色。

公开资料显示,太紫微公司成立于2024年5月,是由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立的新兴企业。公司企业负责人朱明强教授,同时也是英国皇家化学会会员,他表示:“从原材料的开发起步,到最终获得具有自主知识产权的配方技术,这只是我们的初步成果。未来,我们的团队还将研发一系列适用于不同场景的KrF与ArF光刻胶,为国内相关产业带来更多创新与突破。”

 
 
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